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帕森斯设计学院

Parsons the New School for Design

地址:美国纽约州纽约西12街66号
优势专业:服装设计|室内设计|插画设计|
语言要求:TOEFL:92  IELTS:7.0
申请截止日期:早申:11月1日 常规:1月15日
申请难度:困难

罗德岛设计学院

Rhode Island School of Design

地址:美国罗德岛州普罗维登斯市学院路2号
优势专业:工业设计|多媒体设计|陶艺|摄影|建筑设...|
语言要求:TOEFL:93  IELTS:6.5
申请截止日期:早申:11月1日 常规:2月1日
申请难度:困难

皇家艺术学院

Royal College of Art

地址:英国伦敦肯辛顿戈尔
优势专业:服装设计|室内设计|工业设计|动画设计|...|
语言要求:TOEFL:N/A  IELTS:6.5研6.5-7.0
申请截止日期:2月1日
申请难度:困难

中央圣马丁

Central Saint Martins

地址:英国伦敦国王十字格拉纳里广场一号格拉纳里大楼
优势专业:服装设计|室内设计|插画设计|平面设计|
语言要求:TOEFL:N/A  IELTS:本6.0~6.5 研6.5~7.5
申请截止日期:Rolling(滚动录取)
申请难度:困难

普瑞特艺术学院

Pratt Institute

地址:美国纽约州布鲁克林威洛比大道200号(布鲁克林校区)和曼哈顿区西14街144号(曼哈顿校区)
优势专业:室内设计|插画设计|工业设计|影视制作|...|
语言要求:TOEFL:79  IELTS:6.5
申请截止日期:早申:9月1日 常规:11月1日
申请难度:困难

纽约时装学院

Fashion Institute of Technology

地址:美国纽约州纽约市第7大道27街
优势专业:服装设计|插画设计|配饰设计|
语言要求:TOEFL:80  IELTS:6.5
申请截止日期:早申:10月1日 常规:1月1日
申请难度:困难

牛津大学

University of Oxford

地址:英国牛津威灵顿广场
优势专业:纯艺术|音乐|
语言要求:TOEFL:本科110 研究生110  IELTS:本科7.0 研究生7.0
申请截止日期:1月23日
申请难度:困难

哈佛大学

Harvard University

地址:美国马萨诸塞州剑桥市
优势专业:景观设计|建筑设计|工业设计|
语言要求:TOEFL:100  IELTS:N/A
申请截止日期:早申:11月1日 常规:1月1日
申请难度:困难

萨凡纳艺术与设计学院

Savannah College of Art and Design

地址:Savannah and Atlanta, Georgia, US; Lacoste, France; Hong Kong
优势专业:服装设计|平面设计|插画设计|
语言要求:TOEFL:85  IELTS:6.5
申请截止日期:rolling
申请难度:一般

天普大学

Temple University

地址:Philadelphia, PA, US
优势专业:纯艺术|
语言要求:TOEFL:79  IELTS:本6.0 研6.5
申请截止日期:早申:11月1日 常规:2月2日
申请难度:一般

奥蒂斯艺术与设计学院

Otis College of Art and Design

地址:Los Angeles, California, US
优势专业:服装设计|纯艺术|
语言要求:TOEFL:79  IELTS:6.5
申请截止日期:早申:12月1日 常规:2月15日
申请难度:一般

加州艺术学院

California Institute of the Arts

地址:Valencia, California, US
优势专业:室内设计|动画设计|摄影|
语言要求:TOEFL:本80 研100  IELTS:本6.5 研7.0
申请截止日期:早申:12月1日 常规:1月5日
申请难度:困难

伦敦艺术大学

University of the Arts London

地址:英国伦敦霍尔本正街272号
优势专业:服装设计|建筑设计|室内设计|建筑设计|...|
语言要求:TOEFL:N/A  IELTS:本5.0-6.5 研6.5-7.0
申请截止日期:Rolling(滚动录取)
申请难度:困难

伦敦时装学院

London College of Fashion

地址:英国伦敦约翰·普林斯街20号
优势专业:服装设计|插画设计|摄影|
语言要求:TOEFL:N/A  IELTS:6.0-7.0
申请截止日期:Rolling(滚动录取)
申请难度:困难

芝加哥艺术学院

School of the Art Institute of Chicago

地址:美国伊利诺伊州芝加哥市南沃巴什大街36号
优势专业:插画设计|多媒体设计|摄影|
语言要求:TOEFL:本:82 研:80  IELTS:6.5
申请截止日期:早申:11月15日 常规:1月15日
申请难度:困难

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